エアメンブレン

AirMembrane

次世代半導体露光装置向けグラフェンEUVペリクルの開発

概要

産業技術総合研究所発の連続合成・自動転写技術をもとに、次世代半導体露光装置向けのグラフェンEUVペリクルを開発する。グラフェンおよび二次元材料の合成・研究開発・製品化・販売も手がける。2027年のパイロット生産、2028年の量産ライン立ち上げを計画。本社は茨城県つくば市。

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